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한국광학회가 주관하는 2016 차세대 리소그래피 학술대회가 서울 코엑스에서 개최될 예정입니다.
2015년에 이어 2016년 학술대회도 "Electronics Manufacturing Korea 2016 Exhibition"과 함께 서울 COEX에서 개최하게 되었습니다. 리소그래피 기술은 반도체 공정 기술뿐만 아니라 차세대 대량생산 기술로 거듭 발전하고 있으며, 적용 분야도 디스플레이, 반도체 패키징, FPCB, MEMS 센서, 마이크로/나노인쇄전자, 3D 프린팅 및 차세대 패터닝 기술 등으로 확장되고 있습니다. 이러한 추세에 맞춰 이번 학술대회에서는 더욱 다양한 주제를 다루고자 하므로 각계 전문가의 활발한 참여를 기대합니다.

이번 2016 차세대 리소그래피 학술대회에서 파크시스템스의 조상준 박사가 "Metrology/Inspection" 세션에서 초청강연을 할 예정입니다. Metrology/Inspection 세션은 4월 8일(금) 11:00~12:40 E2룸에서 진행될 예정입니다.

본 학술대회가 회원간 정보교환과 상호 교류의 장이 되어 차세대 리소그래피 학계 및 산업계가 더욱 발전하는 계기가 되었으면 합니다.

 

l  학회 : 2016 차세대 리소그래피 학술대회

l  일정 : 2016년 4월 6일(수) ~ 4월 8(금)

l  장소 : 서울 COEX

l  웹사이트  :  http://ngl.or.kr/sub2_1.html

 

해당 웹사이트에서 자세한 행사일정과 행사위치를 확인하실 수 있으십니다.

여러분의 많은 관심과 참여 부탁 드립니다.

 

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