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High Resolution Access to Undercut and Sidewall

CD Measurements of Undercut & Overhang

XE-3DM의 독특한 Z 헤드 기울임 메커니즘으로 포토레지스트의 언더컷 및 오버행 구조를 관찰할 수 있습니다.

  • 독특한 분리식 XY 및 Z 스캔 시스템과 경사식 Z 스캐너
  • Z 스캐너가 측면으로 -19도에서 +19도, -38도에서 +38도 기울어짐
  • 고해상도 측정에 일반 고종횡비 팁 사용
  • 최대 100μm x 100μm XY 스캔
  • 최대 25μm Z 스캔범위
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Complete 3D Metrology of Sidewall

High-Resolution Sidewall Roughness

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XE-3DM의 Z 헤드 기울임 메커니즘으로 극도로 예리한 팁을 사용하여 측벽 거칠기의 상세한 고해상도 이미지를 측정할 수 있습니다.

  • 측벽 거칠기 측정
  • 정확한 측벽 각도 측정
  • 수직 측벽의 CD 측정
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Non-destructive CD and Sidewall Measurements by True Non-Contact™ Mode

CD Measurements of Photoresist Trench

고유의 완전 비접촉 모드를 통해 45nm 정도의 미소한 식각 형상에 비파괴식 인라인 측정을 할 수 있습니다.

  • 산업 내에서 가장 작은 형상의 인라인 측정 가능
  • 손상없이 소프트 포토레지스트 측정 가능
  • 팁 마모를 줄여 장시간 동안 고해상도로 측정 가능
  • 태핑 이미징과 달리 결과가 외부 변수에 좌우되지 않음
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Park XE-3DM features

Tilted Z-scan System

zstaXE-3DM은 XY와 Z 스캐너가 완전히 분리된 교차간섭 제거(XE) AFM 플랫폼을 도입하여 Z- 스캐너의 경사를 독립적으로 제어하는 독특한 설계를 갖추고 있습니다. 따라서 수직 측벽 및 언더컷 구조를 다양한 각도에서 관찰할 수 있습니다. 플레어 팁을 사용하는 시스템과 달리 분해능과 종횡비가 높은 탐침을 사용할 수 있습니다.

Fully Automated Pattern Recognition
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고해상도 디지털 CCD 카메라와 패턴 인식 소프트웨어를 결합하여 사용자 어플리케이션을 위한 자동 패턴 인식 및 위치정렬이 가능합니다.

Automatic Measurement Control

자동화 소프트웨어로 XE-3DM을 간편하게 운용할 수 있습니다. 측정 레시피는 캔틸레버, 스캔 속도, 피드백 게인, 셋 포인트의 파라미터 설정을 최적화한 다지점 분석 기능을 제공합니다.zsta3

True Non-Contact Mode & Longer Tip Life
9 3 True-Non-Contact-Mode

특허를 획득한 고출력 Z 스캔 시스템을 통해 XE 시리즈 원자현미경에서 독특한 완전 비접촉 모드가 현실화되었습니다. 완전 비접촉 모드에서는 척력이 아닌 원자간 인력을 활용합니다.

따라서 완전 비접촉 모드에서는 팁과 샘플 간의 거리가 수 나노미터로 유지되어 AFM 이미지의 화질이 향상되고 팁의 예리함이 보존되어 팁 수명이 훨씬 길어집니다.

Industry’s Lowest Noise Floor
2 Low-Noise-Floor

가장 작은 시료 표면 형상을 감지하고 가장 평탄한 표면을 이미징하기 위해 파크시스템스는 0.5Å 미만이라는 업계에서 가장 낮은 노이즈 수준의 사양을 가진 기기를 설계했습니다. 노이즈 플로어 데이터는 "영점 스캔"을 통해 판정됩니다. 캔틸레버가 시료 표면에 접촉한 상태에서 다음 조건에 따라 단일 지점에서 시스템 노이즈를 측정합니다.

• 0nm x 0nm 스캔, 한 지점에 유지
• 0.5 gain, 접촉 모드 
• 256 x 256 pixels

Park 3DM-Applications